近日，三星宣布成功開發出非晶氧化物TFT（Amorphous Oxide TFT）技術，可用于下一代半導體顯示設備。

    非晶氧化物TFT技術可作為非晶硅技術的替代技術，可有效降低生產成本，而不損失畫質。可應用于液晶電視、AM OLED、薄膜太陽能電池、LED和傳感器等產品。

    三星在本月15日在美國舊金山開幕的國際電子器件大會IEDM 2008上展示了這一新技術，該技術的通道結構設計可使電子運動達到130㎠/V•sec，是目前的氧化物TFT的單通道結構的3倍。電子運動的改良可有效提升半導體顯示設備的屏幕質量和顯示能力。

    隨著平板顯示器超越全高清標準向超高清UD水平發展，這種大容量信息處理能力也成為可能。并且，驅動TFT的臨限電壓可以通過連接到各種半導體傳感器來控制。更為重要的是，非晶氧化物TFT技術可以通過對現有液晶面板生產線進行改造來生產，有效降低改造成本。

    三星還希望這項新技術能像液晶面板一樣廣泛應用于AM OLED、柔性顯示器、透明顯示器、太陽能電池、LED及傳感器等產品。三星常務董事Kim,Yung-hwan稱“長期來看，這項技術將成為未來顯示器的關鍵技術。”

    此外，今年5月三星SDI曾全球首次研制出應用了非晶氧化物TFT技術的最佳分辨率AM OLED面板。